第三百九十六章 投影曝光如果没有周硕的干扰,从0.35微米工艺向0.25微米工艺过渡的光刻机,真实历史上实际使用的是步进重复投影曝光技术。在0.35微米工艺及之前,光刻机光学掩膜版的制作要求是非常高的。基本上和生产的芯片,是一对一全比例设计。掩膜版投射的镜头需要与硅片进行完全的接触,接触中甚至要抽成真空状态。然后光源系统的激光打到掩膜版上,投影部分的光刻胶就会被蒸发掉。把这样的晶圆放到蚀刻机里面,化学药品就会将...

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